Niderlandın "ASML" şirkəti 2019-cu ildən etibarən Çinə qabaqcıl EUV-avadanlıqlarının tədarükünə qoyulan məhdudiyyətlər səbəbindən bu bazara heç bir skaner çatdırmayıb. 7-nm və daha yüksək texnoloji proseslərlə çip istehsalı üçün vacib olan bu avadanlıqlar olmadan, Çin istehsalçıları ciddi çətinliklərlə üzləşirlər. "UBS" analitikləri hesab edir ki, Çin şirkətləri 2040-cı ilə qədər EUV-texnologiyasını tam mənimsəyə bilməyəcəklər.
Çin texnoloji cəhətdən nə qədər geridədir?
Ekspertlərin qiymətləndirməsinə görə, Çinin yarımkeçirici avadanlıq istehsalçıları hazırda "ASML"-in 2004-cü ildəki inkişaf mərhələsindədirlər. Patent fəallığı və tədqiqat işləri göstərir ki, Çin hələ də kütləvi istehsal üçün lazım olan texnoloji səviyyədən 15 il geridə qalır. Hətta yerli şirkətlər EUV-sistemlərini hazırlasalar belə, bu məhsulların beynəlxalq bazarda rəqabət aparması texnoloji boşluq və tənzimləyici maneələr səbəbindən çətin görünür.
DUV litoqrafiyasında vəziyyət necədir?
Daha az mürəkkəb olan DUV (immersion lithography) avadanlıqları sahəsində Çin daha sürətli irəliləyir. "UBS"-in məlumatına görə, Çin şirkətləri növbəti 2-5 il ərzində bu sistemlərin kütləvi istehsalına nail ola bilərlər. "Reuters" agentliyi artıq bir Çin şirkətinin bu sistemləri istehsal etməyə başladığını və 2026-cı ilin sonuna qədər istehsal həcminin 20 ədədə çatacağını bildirib. Lakin EUV-prototipləri hələlik yalnız lazer şüalanmasını formalaşdırmaqla məhdudlaşır və real çip istehsalı üçün yararsızdır.
