Şanxayda yerləşən "Yuanjiwei" şirkəti yarımkeçiricilər sənayesində mühüm irəliləyişə imza atdığını elan edib. Müəssisə 8 düymlük lövhələr üzərində ikiölçülü (2D) materiallardan istifadə edərək mikrosxemlərin istehsalı üçün ilk pilot xəttini qurub. Bu yanaşma, Çin üçün ixrac məhdudiyyətləri səbəbindən əlçatmaz olan EUV (ekstremal ultrabənövşəyi) litoqrafiya qurğularına alternativ bir yol təklif edir.
Nə üçün 2D materiallar vacibdir?
Müasir silisium əsaslı yarımkeçiricilər fiziki limitlərinə yaxınlaşır. Tranzistorların ölçüləri atom səviyyəsinə endikcə, sızma cərəyanları və həddindən artıq istilik ayrılması kimi problemlər yaranır. "Yuanjiwei"-nin İdarə Heyətinin sədri Bao Venzun bildirib ki, atom qalınlığında olan 2D materiallar daha kompakt tranzistorların yaradılmasına və çoxqatlı 3D mikrosxemlərin effektiv işləməsinə şərait yaradır.
Texnologiya sənaye səviyyəsinə necə keçir?
İndiyədək 2D yarımkeçiricilər əsasən laboratoriya sınaqları ilə məhdudlaşırdı. "Yuanjiwei" isə materialın hazırlanmasından tutmuş hazır cihazın istehsalına qədər tam texnoloji dövrəni əhatə edən bir sistem formalaşdırıb. Şirkət 2029-cu ilə qədər 5 nanometrlik mikrosxemlərə bərabər texnologiyaları EUV litoqrafiyası olmadan mənimsəməyi hədəfləyir.
Bu yenilik hansı çətinliklərlə üzləşir?
Ekspertlər qeyd edir ki, laboratoriya uğurlarını kütləvi istehsal miqyasına çatdırmaq olduqca mürəkkəbdir. Bu texnologiyanın kommersiya tətbiqi üçün bütün istehsal zəncirinin, o cümlədən proqram təminatı və qablaşdırma proseslərinin inkişafı tələb olunur. Buna baxmayaraq, pilot xəttin işə salınması Çinin yarımkeçirici sahəsində Qərb texnologiyalarından asılılığını azaltmaq üçün atdığı strateji addım kimi qiymətləndirilir.
