Yarımkeçirici sənayesində çip istehsalı üçün zəruri olan litoqrafik skanerlərin tədarükü hazırda qlobal miqyasda məhdud sayda Qərb şirkətinin nəzarətindədir. Çin, sanksiyalar fonunda texnoloji geriliyi aradan qaldırmaq üçün öz daxili imkanlarına güvənərək, EUV (ekstremal ultrabənövşəyi) diapazonunda lazer şüalanma mənbəyi hazırlayıb. Bu texnologiya gələcəkdə 7 nm-dən daha kiçik texnoloji normalarla çip istehsalına imkan verə bilər.
Bu texnologiya necə inkişaf etdirilib?
"Newsbit" portalının məlumatına görə, bu layihədə "ASML" şirkətində çalışmış mühəndis Lin Nan mühüm rol oynayıb. O, Niderlandda yerləşən şirkətdə məhz bu tip lazerlərin işlənməsi üzrə ixtisaslaşıb. Əvvəlki eksperimental cəhdlərdə Çin mütəxəssisləri cəmi 3,42% səmərəlilik əldə edə bilmişdilər ki, bu da kütləvi istehsal üçün kifayət deyil.
Hansı çətinliklər qalır?
Hazırkı Çin prototipinin gücü 100-150 Vt civarındadır, lakin müasir seriyalı EUV sistemləri 600 Vt, gələcəkdə isə 1000 Vt güc tələb edir. Bundan əlavə, tam funksional skaner üçün yüksək dəqiqlikli optik sistemlər, güzgülər və proqram təminatı lazımdır. Ekspertlər hesab edir ki, Çinin tam işlək EUV skanerini istehsal etməsi üçün 2028-2030-cu illərə qədər vaxt lazım olacaq.
